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产品描述：
产品介绍：
设备用于6″（φ150mm）硅片淀积Si3N4、SiO2、Poly-Si、PSG、BPSG等薄膜生长工艺。
描述：
1. 用工业微机对工艺时间、温度、气体流量、阀门动作、反应室压力实现自动控制。
2. 采用进口压力控制系统，闭环控制，稳定性高。
3. 采用进口耐腐蚀不锈钢管件、阀门，确保气路气密性。
4. 具有完善的报警功能及安全互锁装置。
5. 具有良好的人机界面，灵活的工艺性能。
京公网安备 11011202001138号
